중국 매체가 자국 노광설비 제조업체가 연말까지 28㎚ 노광장비를 개발해 출시할 것이라고 보도했다.

2일 관영 글로벌타임즈는 중국 증권일보 등을 인용해 중국내 유력 노광 장비 기업 상하이마이크로전자(SMEE·上海微子)가 연말까지 최초의 28㎚ 액침불화아르곤(ArFi) 기반 심자외선(DUV) 노광장비(모델명: SSA800/10W)를 출시할 예정이라고 보도했다.

베이징의 반도체 산업 분석가 장훙은 글로벌타임즈에 “이는 업계에 큰 돌파구가 될 것이며 일반적으로 사용되는 장치의 요구 사항을 충족하는 국내 칩이 생산될 것”이라고 말했다.

2002년에 설립된 SMEE는 중국 최고의 노광장비 제조업체 중 하나로 국내 시장의 약 80%를 점유하고 있다. 미국은 중국군 현대화를 위해 미국 원천기술을 확보했거나 확보를 시도했다는 이유로 SMEE를 수출통제 대상으로 규제하고 있다.

SMEE는 2009년 중국 최초의 저성능 노광기를 개발한 이후 2018년 90㎚ 노광기를 출시했다. SMEE는 2016년부터 중국 국가정책과제의 일환으로 28㎚ 노광장비 개발에 나서 2021~2022년에 납품하겠다는 목표를 세웠다. 자체적으로 28㎚ 노광장비를 개발할 경우 세계 최첨단인 5㎚, 7㎚에 비해 떨어지지만 기존 중국산 90㎚과 비교하면 격차는 대폭 줄일 수 있을 것으로 예상된다.

미국은 중국의 최첨단 반도체 생산을 억제하기 위해 반도체 제조장비 업체가 있는 네덜란드, 일본 등과 함께 반도체장비 수출 규제를 하고 있다.

다만 글로벌타임즈가 SMEE 측에 관련 문의를 했지만 공식적인 답변을 내놓지는 않고 있다.

더구나 증권일보에서도 관련 소식은 사라진 것으로 보인다. 앞서 2021년 SMEE가 28㎚ 노광장비 국산화 개발에 실패했다는 뉴스가 나왔지만 이내 중국 인터넷에서 사라진 바 있다. 당시 ‘SMEE가 28㎚ 노광장비 개발 국가 프로젝트의 검수 시험을 통과하지 못해 올해 안에 승인받을 수 없다’는 내용의 보도가 정보통신(IT) 전문 매체들에서 나왔지만 얼마가지 않아 기사가 대부분 삭제됐다.